Gotovo je: Kinezi prave čipove od 5 nm bez zapadne tehnologije

Kineski tehnološki džin „Huavej“, započeo je razvoj prave 5 nm proizvodne linije bez korišćenja EUV (Extreme Ultraviolet) litografskih mašina.

EUV je tehnologija koju je patentirala holandska kompanija ASML, i koja je pod zabranom izvoza u Kinu.

Prema pisanju portala UDN, kineski tehnološki gigant koristi alternativu SSA800, litografske mašine kompanije Shanghai Micro Electronics, u kombinaciji sa tehnikom višestrukog uzorkovanja (multi-patterning).

Osim toga, navodi se da Huawei i njegov glavni partner u proizvodnji čipova, SMIC, već rade na 3 nm tehnologiji, prenosi portal Bug.

Istraživanje se odvija u dva smera: prvi koristi GAA arhitekturu, kakvu primenjuju vodeći svetski proizvođači TSMC i Samsung, dok se drugi fokusira na čipove zasnovane na karbonskim nanocevima.